IT之家从报道获悉，美光计划到 2026 年开始使用依赖于极紫外（EUV）光刻的 1γ 工艺（第三代 10 纳米级节点）大批量生产复杂的存储芯片，因此该公司需要尽快获得资金。
日本经济产业省为期两年的 2 万亿日元（133.85 亿美元）的庞大预算明确用于与半导体投资相关的补贴。其中，台积电熊本工厂获得高达 4760 亿日元（31.857 亿美元）的资金，铠侠与西数的合作得到了价值 929 亿日元（621.72 美元）的补贴支持。
此次对半导体公司的巨额资金注入凸显了日本致力于减少对海外芯片供应商的依赖并重建国内半导体行业的承诺。日本旨在通过加强国内能力来规避与国际供应链中断相关的潜在风险，从而确保关键技术部件的平稳和强劲的内部供应。
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