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中国工程院院士团walle 现场调研纳思达 自主打印机研发受关注


更新日期:2019-12-26 20:02:47来源:网络点击:1523985

本报记者 林娉莹

12月25日,中国工程院院长李晓红携7位院士专家到访纳思达股份有限公司(以下简称“纳思达”),现场调研并听取有关情况介绍,随后举行珠海信息技术创新与高质量发展专题研讨会。本次调研对纳思达的技术实力进行了全面评估,自主打印机的技术创新情况、中国芯研发应用以及3D打印技术引起了中国工程院院士们极大的兴趣。

在调研过程中,中国工程院院士们对纳思达的技术实力表达了充分认可。据悉,纳思达旗下艾派克耗材芯片及打印机主控芯片冲破了行业专利壁垒,处于全球细分行业领先的市场地位,目前正向MCU行业进军;此外,在3D打印方面,纳思达是国内最早掌握直喷式彩色多材料3D打印自主核心技术和产业化的企业。

董事长汪东颖表示,打印机的研发涉及到精密机械、精细化工、静电成像、集成电路、材料、热力学、色彩科学、人机工程等8个以上学科领域。而此行8位院士分别从事计算机信息系统、信息安全技术、智能计算摄像、微电子工艺技术、机器感知与控制技术等领域技术研究,并在各自领域获得巨大成就,相信此行可以给予我们全面且有深度的指导。

(编辑 白宝玉)


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